全面了解提升超精抛光工艺原理,有效提升表面处理效率!
2024/03/25
# 知识文章

超精抛光工艺的原理


超精抛光/ 超精密抛光,为物理抛光的一种方式;是指采用特制的磨具,对光学零件、石英振子、玻璃等各种材质,在含有磨料的抛光液中,紧压在工件 被加工表面上,作高速旋转运动。 其特点在于应用抛光法加工出高精度、高光滑度、与低表面破坏层之工件。 利用该技术可以达 到 Ra0.008μm 的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。 光学镜片模具时常采用此种方法。

超精抛光的特点

  • 可实现自由曲面的 超精抛光
  • 在显微镜下 100 倍表面依旧无抛痕
  • 可以有效的降低表面粗糙度并且控制Ra值
  • 有效的降低波纹度(Wa)
  • 可精准维持工件抛光后面型精良
  • 适用于各种材质,例如:无电解镍 、铜、铝、 钨钢以及模具钢等

超精抛光与抛光的区别


抛光是使用物理机械、化学药品等方法,从而让物体表面粗糙度降低,达到修饰效果的工艺。 抛光技术主要运用在精密机械、光学工业等领域。 抛光的作用不在于提高工件尺寸或几何形状精度,而是以得到光滑表面、镜面光泽为目的。 从而得知二者之间最大的差异是超精抛光除了有更好的表面粗糙度外,表面不会产生抛痕或波纹,对于精度要求高,外观有低表面破坏层的产品,都可选择 超精抛光来进行最终加工。

超精抛光前后的数据比较


表3-3-1是超精抛光前后的数据比较,可看出超精抛光前的数据已经有一定水准,经过超精抛光后数据更完美,但也可以从数据中得知, 要达到更完美的表面粗糙度,产品在超精抛光前的加工完成表面,也是相当重要的,前段工序完成品的表面粗糙度数据越好,经过超精抛光产品会更优化。

超精抛光
Ra 0.085 0.026
RMax 1.050 0.320
Ry 0.855 0.264
Rz 0.912 0.212

表3-3-1

单位:μm

检查设备:东京精密表面粗度测定仪